DSpace Collection:https://elib.gsu.by/handle123456789/932026-04-13T02:42:45Z2026-04-13T02:42:45ZАктивная передающая бианизотропная метаповерхность с функцией управления фазой для B5G/6G приложений беспроводной связиФаняев, И.А.Тимошенко, А.А.Самофалов, А.Л.Хахомов, С.А.Семченко, И.В.Цзихун ГуДаши ДингFanyaev, I.A.Timoshenko, A.A.Samofalov, A.L.Khakhomov, S.A.Semchenko, I.V.Jihong GuDazhi Dinghttps://elib.gsu.by/handle123456789/834382025-12-15T12:33:49Z2025-01-01T00:00:00ZTitle: Активная передающая бианизотропная метаповерхность с функцией управления фазой для B5G/6G приложений беспроводной связи
Authors: Фаняев, И.А.; Тимошенко, А.А.; Самофалов, А.Л.; Хахомов, С.А.; Семченко, И.В.; Цзихун Гу; Даши Динг; Fanyaev, I.A.; Timoshenko, A.A.; Samofalov, A.L.; Khakhomov, S.A.; Semchenko, I.V.; Jihong Gu; Dazhi Ding
Abstract: Предложена конструкция активного микрорезонатора, предназначенного для реализации реконфигурируемой метаповерхности, применимой в системах беспроводной связи поколений B5G/6G. Разработанная структура
обеспечивает управление фазой прошедшей электромагнитной волны и позволяет динамически изменять фазовый
фронт. Проведено численное моделирование в Ка-диапазоне СВЧ волн, подтвердившее возможность широкодиапазонного
управления фазой за счёт изменения электроёмкости варикапов. Полученные результаты демонстрируют
потенциал использования разработанной метаповерхности в антеннах нового поколения беспроводной связи B5G/6G
для адаптивного управления диаграммой направленности. = A design of an active microresonator intended for the implementation of a reconfigurable metasurface applicable to
B5G/6G wireless communication systems is proposed. The developed structure enables phase control of the transmitted
electromagnetic wave and allows dynamic modification of the transmitted wavefront. The numerical simulations carried out
in the Ka-band of microwave waves have confirmed the capability of wide-range phase tuning through the variation of varicap
capacitance. The obtained results demonstrate the potential of employing the proposed metasurface in a new generation
of wireless communications B5G/6G antennas for adaptive beam steering.2025-01-01T00:00:00ZМоделирование температурного поля в процессах двулучевого лазерного термораскалывания материалов электронной техникиКупо, А.Н.Никитюк, Ю.В.Емельянов, В.А.Сердюков, А.Н.Kupo, A.N.Nikityuk, Yu.V.Yemelyanov, V.A.Serdyukov, A.N.https://elib.gsu.by/handle123456789/834342025-12-15T12:13:21Z2025-01-01T00:00:00ZTitle: Моделирование температурного поля в процессах двулучевого лазерного термораскалывания материалов электронной техники
Authors: Купо, А.Н.; Никитюк, Ю.В.; Емельянов, В.А.; Сердюков, А.Н.; Kupo, A.N.; Nikityuk, Yu.V.; Yemelyanov, V.A.; Serdyukov, A.N.
Abstract: Рассчитаны температурные поля в процессах лазерного управляемого термораскалывания хрупких
неметаллических материалов с использованием двух пучков лазерного излучения в присутствии хладагента.
На основании данных о распределении температуры по поверхности и в объёме материалов проведена оценка верхнего
предела термического микронапряжения. Эта информация необходима для обоснованного выбора режимов лазерной
обработки указанных материалов, в частности, кварцевого и силикатного стёкол, в технологических процессах
микроэлектроники. = The study presents calculations of temperature fields in controlled laser thermal cleaving of brittle non-metallic
materials using two laser beams with a coolant. An estimation of the upper limit of thermal micro-stress was conducted based
on the temperature distribution data across the surface and within the volume of the materials. This information is essential for
the substantiated selection of laser processing parameters for the specified materials, particularly quartz and silicate glasses,
in microelectronics manufacturing processes.2025-01-01T00:00:00ZМагнитные свойства пленок Sr₂Fe₁₋ᵪMo₁₊ᵪO₆-δ, осажденных методом ионно-плазменного напыленияКиселев, Д.А.Старухина, С.С.Быков, А.С.Петров, А.В.Юденков, А.Г.Семченко, А.В.Каланда, Н.А.Kiselev, D.A.Starukhina, S.S.Bykov, A.S.Petrov, A.V.Yudenkov, A.G.Semchenko, A.V.Kalanda, N.A.https://elib.gsu.by/handle123456789/834332025-12-15T11:52:12Z2025-01-01T00:00:00ZTitle: Магнитные свойства пленок Sr₂Fe₁₋ᵪMo₁₊ᵪO₆-δ, осажденных методом ионно-плазменного напыления
Authors: Киселев, Д.А.; Старухина, С.С.; Быков, А.С.; Петров, А.В.; Юденков, А.Г.; Семченко, А.В.; Каланда, Н.А.; Kiselev, D.A.; Starukhina, S.S.; Bykov, A.S.; Petrov, A.V.; Yudenkov, A.G.; Semchenko, A.V.; Kalanda, N.A.
Abstract: Определена аномальная зависимость коэффициента Блоха (B) от магнитного поля в пленках двойного
перовскита Sr₂FeMoO₆-δ, которая противоречит классической модели, предсказывающей уменьшение B. Установлено, что величина B монотонно возрастает с увеличением магнитного поля (в диапазоне 0,01–0,16 Тл). Показано, что данный эффект обусловлен не доминированием магнонного вклада, а конкуренцией механизмов размагничивания, связанных с дефектами структуры. Исследования демонстрируют, что внешнее магнитное поле изменяет баланс
между магнонным и дефектным вкладами в термическое размагничивание. = The anomalous dependence of the Bloch coefficient (B) on the magnetic field in double perovskite Sr₂FeMoO₆-δ thin
films was determined, which contradicts the classical model predicting the decrease of B. It has been found that the value of B
increases monotonically with the increase of the magnetic field (in the range of 0.01–0.16 T). It was shown that this effect is not
due to the dominance of the magnon contribution but is caused by the competition of demagnetization mechanisms associated
with structural defects. The investigation results demonstrate that an external magnetic field alters the balance between magnon
and defect contributions to thermal demagnetization.2025-01-01T00:00:00ZВлияние режимов магнетронного распыления на свойства тонких пленок оксида ванадияЗанько, А.И.Жамойть, А.Е.Шидловский, А.Г.Zanka, A.I.Zhamoits, A.E.Shydlouski, A.N.https://elib.gsu.by/handle123456789/834312025-12-15T11:22:40Z2025-01-01T00:00:00ZTitle: Влияние режимов магнетронного распыления на свойства тонких пленок оксида ванадия
Authors: Занько, А.И.; Жамойть, А.Е.; Шидловский, А.Г.; Zanka, A.I.; Zhamoits, A.E.; Shydlouski, A.N.
Abstract: Исследован процесс магнетронного распыления ванадиевой мишени в среде аргона и кислорода. Получены
гистерезисные зависимости изменения тока катода от содержания кислорода и мощности распыления. Температурный
коэффициент сопротивления полученных тонких пленок оксида ванадия при их удельном сопротивлении до 0,1 Ом∙м
достигает 2,6% / °С. Установлено, что наиболее подходящие пленки оксида ванадия для инфракрасных фотоприемных
устройств имеют аморфную структуру с кристаллическими фазами. = The magnetron sputtering process of a vanadium target in an argon and oxygen atmosphere has been investigated.
Hysteresis dependencies of the cathode current change on the oxygen content and sputtering power were obtained.
The temperature coefficient of resistance of the obtained vanadium oxide thin films, with a resistivity up to 0,1 Ohm·m, reaches
2,6% / °C. The most suitable vanadium oxide films for infrared photodetectors have an amorphous structure with crystalline
phases.2025-01-01T00:00:00Z