Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorВасильев, С.С.-
dc.contributor.authorДжемардьян, Ю.А.-
dc.contributor.authorМихайлов, Г.И.-
dc.contributor.authorСтарчик, Л.П.-
dc.date.accessioned2020-10-28T08:00:22Z-
dc.date.available2020-10-28T08:00:22Z-
dc.date.issued1971-
dc.identifier.citationВасильев, С.С. Использование реакции (Ƥ,γ) для определения содержания легких элементов в тонких поверностных слоях образцов / С.С. Васильев, Ю.А. Джемардьян, Г.И. Михайлов и др. // Атомная энергия / АН СССР. - Москва : Атомиздат, 1971. - Т. 30, вып. 4. - С. 397-398.ru
dc.identifier.urihttp://elib.gsu.by/handle/123456789/13010-
dc.language.isoРусскийru
dc.publisherАтомиздатru
dc.subjectрезонансные реакцииru
dc.subjectпотеря энергииru
dc.subjectалмазная полировкаru
dc.subjectтонкий поверхностный слойru
dc.titleИспользование реакции (Ƥ,γ) для определения содержания легких элементов в тонких поверностных слоях образцовru
dc.typeArticleru
dc.identifier.udk539.1.06:621.039-
dc.placeOfPublicationМоскваru
dc.edition4ru
dc.volume30ru
Appears in Collections:Оцифрованный фонд

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Vasilyev_Ispolzovanie.pdf3 MBAdobe PDFView/Open
Atomnaya (80).pdf1.52 MBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.