Исследование обработки кристаллов алмаза лазерным излучением с длиной волны 266 нм

Abstract

Выполнено численное моделирование процесса обработки кристаллов алмаза при воздействии лазерного излучения с длиной волны 266 нм. Расчет формы лунки и температурных полей, формируемых в кристаллах алмаза в результате лазерного нагрева, выполнен с использованиемм трёх вариантов моделирования: I – трехмерный анализ при воздействии лазерного излучения вдоль оси симметрии второго порядка (L2), II – трехмерный анализ при воздействии лазерного излучения вдоль оси симметрии третьего порядка (L3), III – трехмерный анализ при воздействии лазерного излучения вдоль оси симметрии четвертого порядка (L4). Проведена экспериментальная проверка полученных результатов.