Title: Особенности химических процессов, инициируеммых воздействием низкоэнергетичного потока электронов на кремнийорганическую смолу К42
Other Titles: Features of chemical processes, iniciarem the influence of low-energyelectron flux in silicone resin K42
Authors: Ярмоленко, М.А.
Зайцев, А.А.
Yarmolenko, М.А.
Zaytsev, А.А.
Keywords: кремнийорганические покрытия
низкоэнергетичный поток
смола К42
спектроскопические исследования
термодеструкция
silicone coating
the low-energy flow
resin K42
issledovaniya spectroscopic
thermal decomposition
Issue Date: 2018
Publisher: МЦНС «НАУКА и просвещение»
Citation: Ярмоленко, М.А. Особенности химических процессов, инициируеммых воздействием низкоэнергетичного потока электронов на кремнийорганическую смолу К42 = Features of chemical processes, iniciarem the influence of low-energyelectron flux in silicone resin K42 / М.А. Ярмоленко, А.А. Зайцев // Наука и образование: сохраняя прошлое, создаём будущее : сборник статей XIV Международной научно-практической конференции. В 3 ч. Ч 1. – Пенза : МЦНС «Наука и Просвещение», 2018. – С. 12-15.
Abstract: Кремнийорганические покрытия, имеют комплекс высоких физико-механических свойств, поэтому создание на их основе композиционных систем, а также разработка методов и оптимизация технологических приемов их формирования является в наше время важной задачей. В работе было произведено исследование особенностей химических процессов, инициируемых воздействием низкоэнергетичного потока электронов. Silicone coatings have a high complex of physical-mechanical properties, therefore, the creation on their basis of composite systems, and developing methods and optimization of technological methods of their formation is nowadays an important task. The study investigated the characteristics of chemical processes initiated by impact of low-energy electron flux.
URI: http://elib.gsu.by/jspui/handle/123456789/39074
Appears in Collections:Статьи

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Ярмоленко_Особенности.pdf296.47 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.