Изучение процесса формирования покрытий бора и оксида меди

Abstract

В представленной статье рассматриваются покрытия бора и оксида меди, осажденные c помощью распыляющего ионного источника. Скорость осаждения покрытий варьировалась от 11 до 11.8 нм/мин. Морфология и состав исследовались с помощью атомно-силовой микроскопии и рентгеноструктурного анализа. Данные исследования показали, что борные покрытия имеют более однородную структуру по сравнению с покрытиями оксида меди. The use of ion beam source sputtering, CuO and B films were deposited successively. The deposition speeds are 11 nm/min and 11.8 nm/min, respectively. The purity and morphology of the as-prepared films were investigated by power X-ray diffraction and atomic force microscopy. Thus it is can be seen that the sizes of the films were more homogeneous in B than CuO.