Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorФедосюк, В.М.-
dc.contributor.authorFedosyuk, V.M.-
dc.date.accessioned2021-03-17T06:55:15Z-
dc.date.available2021-03-17T06:55:15Z-
dc.date.issued2021-
dc.identifier.citationФедосюк, В.М. Механизм роста пленок висмута на начальных стадиях электрохимического осаждения = The mechanism of bismuth films growth at initial stages of electrochemical deposition / В.М. Федосюк // Проблемы физики, математики и техники. Сер.: Физика. - 2021. - № 1 (46). - С.31-37.ru
dc.identifier.urihttp://elib.gsu.by/jspui/handle/123456789/18258-
dc.description.abstractИсследованы процессы электроосаждения пленок Bi из перхлоратного электролита на начальных стадиях. Впервые показано и объяснено, почему при длительности осаждения 1 с происходит со-осаждение Pb и Bi. Обсуждена взаимосвязь условий синтеза с химическим составом и микроструктурой пленок Bi. Анализ микроструктурных особенностей выявил изменение механизма роста пленок от столбчатой до слоисто-гранулированной формы с увеличением длительности осаждения. Такое аномальное поведение объясняется появлением сильной текстуры Bi и эффектами слияния зерен в процессе роста. Исследования пористости показали, что пленки Bi имеют плотноупакованную микроструктуру. The processes of Bi films electrodeposition from perchlorate electrolyte at the initial stages have been investigated. For the first time it has been shown and explained why, with deposition duration of 1 s, the co-deposition of Pb and Bi occurs. The correlation between the synthesis conditions and the chemical composition and microstructure of Bi films is discussed. Analysis of microstructural features revealed a change in the growth mechanism of Bi films from a columnar to a layered-granular form with an increase in the electrodeposition duration. This anomalous behavior is explained by the appearance of a strong Bi texture and the effects of grain coalescence during growth. Porosity studies have shown that Bi films have a closely-packed microstructure.ru
dc.language.isoРусскийru
dc.publisherГомельский государственный университет имени Ф.Скориныru
dc.subjectвисмутru
dc.subjectсвинецru
dc.subjectэлектроосаждениеru
dc.subjectперхлоратный электролитru
dc.subjectмикроскопияru
dc.subjectbismuthru
dc.subjectleadru
dc.subjectelectrodepositionru
dc.subjectperchlorate electrolyteru
dc.subjectmicroscopyru
dc.titleМеханизм роста пленок висмута на начальных стадиях электрохимического осажденияru
dc.title.alternativeThe mechanism of bismuth films growth at initial stages of electrochemical depositionru
dc.typeArticleru
dc.identifier.udk621.357.7-
dc.rootПроблемы физики, математики и техникиru
dc.placeOfPublicationГомельru
dc.seriesФизикаru
dc.number№ 1 (46)ru
Appears in Collections:Проблемы физики, математики, техники. Физика

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Федосюк_Механизм_роста.pdf1.92 MBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.