Кинетические особенности осаждения и химический состав покрытий, сформированных из летучих продуктов лазерного диспергирования политетрафторэтилена

Abstract

Установлены закономерности влияния интенсивности импульсного лазерного излучения с λ = 1064 нм на параметры диспергирования политетрафторэтилена (ПТФЭ), скорость роста полимерных покрытий, их химический состав. Повышение интенсивности лазерного излучения вызывает возрастание скорости роста покрытия без заметного влияния на реакционную активность летучих продуктов диспергирования. Рост интенсивности лазерного излучения также приводит к повышению содержания в молекулярной структуре осаждаемого покрытия кислородсодержащих групп, фторсодержащих графитоподобных кластеров, снижению краевого угла смачивания водой. На основании анализа изменений химического состава покрытий сделан вывод о двухстадийном процессе диспергирования: на начальной стадии состав летучих продуктов не зависит от интенсивности лазерного излучения, на более поздней стадии он определяется степенью дефторирования материала мишени, зависящей от интенсивности излучения. Regularities for the influence of the pulsed laser radiation intensity with λ = 1064 nm on the dispersion parameters of polytetrafluoroethylene (PTFE), the growth rate of polymer coatings, and their chemical composition have been established. Increased intensity of laser radiation increases the rate of the coating deposition without a noticeable effect on the reactivity of volatile dispersion products. The increased intensity of laser exposure leads to an increase in the content of oxygen groups, fluorine-containing graphite-like clusters in the molecular structure of the deposited coating, and the decrease of the contact angle of water wetting. Based on the analysis of changes in the chemical composition of the coatings, a conclusion was made about a two-stage dispersion process: at the initial stage, the composition of volatile products is independent of the laser radiation intensity; at a later stage, it is determined by the degree of defluorination of the target material, which depends on the intensity of radiation.