Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorРуденков, А.С.-
dc.date.accessioned2018-08-03T08:16:16Z-
dc.date.available2018-08-03T08:16:16Z-
dc.date.issued2017-
dc.identifier.citationМоделирование процесса ионной имплантации : лабораторная работа № 6 по учебной дисциплине "Микро- и наноэлектроника" / сост. А.С. Руденков ; Гомельский государственный университет имени Ф.Скорины. - Гомель, 2017. - 10 с.ru
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/5370-
dc.language.isoРусскийru
dc.publisherГомельский государственный университет имени Ф.Скориныru
dc.subjectмикроэлектроникаru
dc.subjectнаноэлектроникаru
dc.subjectлабораторная работаru
dc.subjectионная имплантацияru
dc.titleМоделирование процесса ионной имплантацииru
Располагается в коллекциях:физическая электроника : 4 курс

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Лаб №6 Моделирование процесса ионной имплантации.pdf673.94 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.