Название: Моделирование процесса ионной имплантации
Авторы: Руденков, А.С.
Ключевые слова: микроэлектроника
наноэлектроника
лабораторная работа
ионная имплантация
Дата публикации: 2017
Издательство: Гомельский государственный университет имени Ф.Скорины
Библиографическое описание: Моделирование процесса ионной имплантации : лабораторная работа № 6 по учебной дисциплине "Микро- и наноэлектроника" / сост. А.С. Руденков ; Гомельский государственный университет имени Ф.Скорины. - Гомель, 2017. - 10 с.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://hdl.handle.net/123456789/5370
Располагается в коллекциях:физическая электроника : 4 курс

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Лаб №6 Моделирование процесса ионной имплантации.pdf673.94 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.