Влияния дополнительного отжига в вакууме на структуру, электрические и оптические свойства ZnO:Al пленок, синтезированных золь-гель методом

Abstract

Определено влияние дополнительного отжига в вакууме на структуру, электрофизические и оптические свойства ZnO:Al пленок, синтезированных золь-гель методом. Дополнительный отжиг в вакууме при температуре 350º С приводит к повышению содержания кристаллической фазы в пленках, наблюдается существенное уменьшение значений ширины запрещенной зоны, что хорошо согласуется с данными предыдущих исследований структурных свойств плёнок ZnO, полученных золь-гель методом.

The effect of additional annealing in vacuum on the structure, electrical and optical properties of ZnO:Al films synthesized by sol-gel method is determined. Additional annealing in vacuum at the temperature of 350º С leads to the increasing of the content of the crystalline phase in the films. There significant decreasing of the widths of the forbidden gap is observed, which is in good agreement with the data of previous studies of the structural properties of ZnO:Al films.