Феноменологическая модель травления металлического покрытия в плазме газовой смеси

Abstract

Построена феноменологическая модель плазмохимического травления аллюминиевого покрытия, являющегося основой токонесущих микроконстукций в технологиях изделий электронной техники, в газовой среде, содержащей парциальные компоненты BCl₃ с₁ = (50-65 об.%), Cl₂ с₂ = (25-35 об.%) и N₂ с₃ = (0–30 об.%) при давлении P = 150–250 мТорр и плотности мощности плазмы W = 1,6–2,2 Вт/см². = A phenomenological model of plasma-chemical etching of an aluminum coating is created, which is the basis of current-carrying microstructures in electronic product technologies, in a gas environment containing partial components BCl₃ с₁ = (50-65 vol.%), Cl₂ с₂ = (25-35 vol.%) and N₂ с₃ = (0–30 vol.%), at a pressure P = 150–250 mТоrr, and plasma power density W = 1,6–2,2 W/sm².