| Название: | Physical and chemical regularities of the structure and properties of doped carbon films deposited from the plasma of pulsed cathode-arc discharge |
| Авторы: | Piliptsov, D.G. Rogachev, A.V. Rudenkov, A.S. Xiaohong Jiang Bing Zhou Пилипцов, Д.Г. Рогачев, А.В. Руденков, А.С. |
| Дата публикации: | 2018 |
| Библиографическое описание: | Physical and chemical regularities of the structure and properties of doped carbon films deposited from the plasma of pulsed cathode-arc discharge / D.G. Piliptsov, A.V. Rogachev, A.S. Rudenkov, Xiaohong Jiang, Bing Zhou // Белорусско-китайский научно-технический семинар : материалы (Гомель, 11―13 июня 2018 года) / [редколлегия: А. В. Рогачев (главный редактор), А. Л. Самофалов, А. С. Руденков]. — Гомель : ГГУ, 2018. — C. 13-17. |
| URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | http://elib.gsu.by/handle/123456789/6654 |
| Располагается в коллекциях: | Статьи |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| Physical and chemical regularities.pdf | 244.02 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.