Название: Optimization of Dielectric Sol-Gel Coating Synthesis Parameters via Genetic Algorithm
Авторы: Vaskevich, V.V.
Kovalenko, D.L.
Nikityuk, Y.V.
Gaishun, V.E.
Aushev, I.Y.
Васькевич, В.В.
Коваленко, Д.Л.
Никитюк, Ю.В.
Гайшун, В.Е.
Аушев, И.Ю.
Ключевые слова: genetic algorithm
sol-gel technology
optimal parameters
volt-ampere characteristics
coatings for microelectronics
Дата публикации: 2025
Библиографическое описание: Optimization of Dielectric Sol-Gel Coating Synthesis Parameters via Genetic Algorithm / V.V. Vaskevich, D.L. Kovalenko, Y.V. Nikityuk [et al.] // 9th International Conference on Information, Control, and Communication Technologies (ICCT). - Gomel, 2025. - Р. [1-4].
Краткий осмотр (реферат): This study optimized the parameters of silicon dioxide coating formation using a genetic algorithm. The coatings were prepared via the sol-gel method. Experiments were conducted using a face-centered central composite design, with the following input parameters: the ratio of silicon organic compounds in the initial sol, spin-coating rotation speed, and annealing temperature. The output characteristics included coating thickness, refractive index, and leakage currents of the sol-gel coatings. The influence of coating formation parameters on these characteristics was evaluated. The coating process optimization was performed using a genetic algorithm with the objective of minimizing leakage currents for sol-gel coatings of specified thickness.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://elib.gsu.by/handle123456789/84692
Располагается в коллекциях:Статьи

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Optimization_of_Dielectric_Sol-Gel_Coating_Synthesis_Parameters_via_Gene....pdf622.49 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.