Особенности формирования морфологии пленок MoSex, полученных двухэтапным методом

Abstract

В работе представлены результаты исследования пленок MoSeх, полученных с помощью двухэтапного метода синтеза, который включает магнетронное напыление слоя Мо и его последующую селенизацию. Выявлено влияние параметров селенизации и магнетронного напыления, в том числе толщины слоя Мо, на элементный состав и морфологию пленок MoSeх. Показано, что формирование пленок MoSeₓ зависит от температуры селенизации, а также определяется параметрами напыления Mo. = This paper presents the results of a study of MoSeх films obtained using a two-step synthesis method involving magnetron sputtering of a Mo layer and its subsequent selenization. The influence of selenization and magnetron sputtering parameters, including the Mo layer thickness, on the elemental composition and morphology of MoSeх films is revealed. It is shown that the nature of MoSeх film formation depends on the selenization temperature and is also determined by the Mo sputtering parameters.