Title: Исследование процесса лазерного раскалывания кремниевых пластин, вырезанных в плоскости (110)
Other Titles: Process research of laser splitting silicon wafers cutout in the plane (110)
Authors: Сердюков, А.Н.
Шалупаев, С.В.
Никитюк, Ю.В.
Середа, А.А.
Serdykov, A.N.
Shalupaev, S.V.
Nikitjuk, Y.V.
Sereda, A.A.
Keywords: трещина
лазерное раскалывание
кремниевая пластина
crack
laser splitting
silicon wafer
Issue Date: 2012
Publisher: Гомельский государственный университет имени Ф.Скорины
Citation: Исследование процесса лазерного раскалывания кремниевых пластин, вырезанных в плоскости (110) = Process research of laser splitting silicon wafers cutout in the plane (110) / А.Н. Сердюков, С.В. Шалупаев, Ю.В. Никитюк, А.А. Середа // Проблемы физики, математики и техники. Сер.: Физика. - 2012. - № 3 (12). - С. 37-40.
Abstract: Представлены результаты моделирования процесса лазерного термораскалывания монокристаллического кремния. Расчет термоупругих полей, формируемых в кремниевой пластине в результате последовательного лазерного нагрева и воздействия хладагента, осуществлялся для среза (110) в трех различных вариантах перемещений лазерного пучка, а именно в направлениях [1–10], [001], [1–11]. Results of laser thermosplitting process modelling of single-crystalline silicon are presented. Calculation of the thermoelastic fields formed in a silicon plate as a result of consecutive laser heating and coolant influence was carried out for a section (110) in three different variants of laser beam movement, namely in directions [1–10], [001], [1–11].
URI: http://elib.gsu.by/handle/123456789/11035
Appears in Collections:Проблемы физики, математики, техники. Физика

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Serdykov_Process_research_of_laser_splitting_silicon.pdf423.77 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.