| Название: | Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении |
| Другие названия: | Formation of titanium nitride films by reactive magnetron sputtering under low pressure |
| Авторы: | Достанко, А.П. Голосов, Д.А. Завадский, С.М. Мельников, С.Н. Окоджи, Д.Э. Котинго, Д.Д. Рубан, Г.М. |
| Ключевые слова: | реактивное магнетронное распыление нитрид титана микротвердость коэффициент трения объемный износ |
| Дата публикации: | 2016 |
| Библиографическое описание: | Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении / А.П. Достанко, Д.А. Голосов, С.М. Завадский, С.Н. Мельников, Д. Э. Окоджи, Д.Д. Котинго, Г.М. Рубан // Проблемы физики, математики и техники. Сер.: Физика. - 2016. - № 2 (27). - С. 12-17. |
| Краткий осмотр (реферат): | Проведены исследования процесса реактивного магнетронного распыления титана в среде Ar/N2 рабочих газов при пониженном давлении. Установлено, что при высоковакуумном режиме работы магнетронной распылительной системы и высоких скоростях откачки в режиме стабилизации мощности разряда магнетрона напряжение разряда практически однозначно зависит от содержания реактивного газа в камере, т. е. отсутствует гистерезис характеристик, свойственный процессам реактивного распыления. При этом возможно воспроизводимое нанесение слоев нитрида титана c удельным сопротивлением менее 70 мкОм×см и твердостью свыше 28 ГПа. |
| URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | http://hdl.handle.net/123456789/2557 |
| ISSN: | 2077-8708 |
| Располагается в коллекциях: | Проблемы физики, математики, техники. Физика |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| Достанко АП Голосов ДА Завадский СМ Мельников СН Окоджи ДЭ Котинго ДД Рубан ГМ 2016-2.pdf | 648.46 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.