Название: Учёт влияния естественного поверхностного слоя при исследовании кремниевых пластин методом спектральной эллипсометрии
Другие названия: The account of influence of the natural surface layer under investigation of silicon plates by the method of spectral ellipsometry
Авторы: Стаськов, Н.И.
Ивашкевич, И.В.
Сотский, А.Б.
Сотская, Л.И.
Ключевые слова: сектральная эллипсометрия
поверхностный слой
оптическая модель
дисперсия оптических характеристик
Дата публикации: 2012
Библиографическое описание: Учёт влияния естественного поверхностного слоя при исследовании кремниевых пластин методом спектральной эллипсометрии / Стаськов Н.И [и др.] // Проблемы физики, математики и техники. Сер.: Физика. - 2012. - № 1(10). - С. 26-30.
Краткий осмотр (реферат): Исследуется возможность исключения влияния естественного поверхностного слоя при определении методом спек- тральной эллипсометрии дисперсии показателей преломления n(λ) и поглощения k(λ) полупроводниковой подложки. Показано, что при решении обратных эллипсометрических задач можно использовать простейшую модель переходно- го слоя с одним параметром, который определяется толщиной и показателем преломления слоя.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://hdl.handle.net/123456789/2945
ISSN: 2077-8708
Располагается в коллекциях:Проблемы физики, математики, техники. Физика

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Стаськов НИ Ивашкевич ИВ Сотский АБ Сотская ЛИ 2012-1.pdf424.76 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.