Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Купо, А.Н. | - |
| dc.contributor.author | Побияха, А.С. | - |
| dc.date.accessioned | 2018-03-27T10:47:33Z | - |
| dc.date.available | 2018-03-27T10:47:33Z | - |
| dc.date.issued | 2015 | - |
| dc.identifier.citation | Купо, А.Н. Компьютерное моделирование процессов лазерного экспонирования фоторезистов / А.Н. Купо, А.С. Побияха // Известия Гомельского государственного университета имени Ф. Скорины. Сер.: Естественные науки. - 2015. - № 3(90). - С. 153-156. | ru |
| dc.identifier.issn | 1609-9672 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/123456789/3182 | - |
| dc.description.abstract | Представлены результаты численного решения задачи, в которой рассматривалась фотохимическая реакция экспонирования фоторезиста. В качестве объекта исследования рассматривалась прозрачная среда с заданным значением концентрации светочувствительного компонента. Определялось влияние толщины слоя фоторезиста и времени экспозиции на изменение интенсивности лазерного излучения и концентрации светочувствительного компонента. | ru |
| dc.language.iso | Русский | ru |
| dc.subject | фоторезист | ru |
| dc.subject | экспонирование | ru |
| dc.subject | моделирование фотохимических реакций | ru |
| dc.title | Компьютерное моделирование процессов лазерного экспонирования фоторезистов | ru |
| dc.type | Article | ru |
| dc.identifier.udk | 621.791.7:621.381 | - |
| dc.root | Известия Гомельского государственного университета имени Ф. Скорины | ru |
| dc.series | Естественные науки | ru |
| dc.number | 3(90) | ru |
| Располагается в коллекциях: | Известия ГГУ им. Франциска Скорины. Естественные науки | |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 29 Купо,Побияха (153-156).pdf | 362.58 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.