| Название: | Компьютерное моделирование процессов лазерного экспонирования фоторезистов |
| Авторы: | Купо, А.Н. Побияха, А.С. |
| Ключевые слова: | фоторезист экспонирование моделирование фотохимических реакций |
| Дата публикации: | 2015 |
| Библиографическое описание: | Купо, А.Н. Компьютерное моделирование процессов лазерного экспонирования фоторезистов / А.Н. Купо, А.С. Побияха // Известия Гомельского государственного университета имени Ф. Скорины. Сер.: Естественные науки. - 2015. - № 3(90). - С. 153-156. |
| Краткий осмотр (реферат): | Представлены результаты численного решения задачи, в которой рассматривалась фотохимическая реакция экспонирования фоторезиста. В качестве объекта исследования рассматривалась прозрачная среда с заданным значением концентрации светочувствительного компонента. Определялось влияние толщины слоя фоторезиста и времени экспозиции на изменение интенсивности лазерного излучения и концентрации светочувствительного компонента. |
| URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | http://hdl.handle.net/123456789/3182 |
| ISSN: | 1609-9672 |
| Располагается в коллекциях: | Известия ГГУ им. Франциска Скорины. Естественные науки |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 29 Купо,Побияха (153-156).pdf | 362.58 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.