Синтез и исследование силикатных золь–гель-покрытий для микро- и наноэлектроники

Abstract

В работе рассмотрена возможность создания диэлектрических SiO2- покрытий на основе золь–гель-метода путём гидролиза металлоорганических соединений кремния в водно-спиртовой смеси. Описаны оптимальные параметры нанесения и термообработки для получения однородных покрытий на поверхности монокристаллического кремния. Выполнены исследования механической стойкости к истиранию как основного вида испытания покрытий на прочность и адгезию к поверхности подложки. Методом ИК-спектроскопии изучены фазовые и структурные превращений в процессе формирования золь–гель-плёнок. Методом АСМ установлены зависимости состояния и морфологии поверхности покрытий от состава исходного плёнкообразующего раствора и технологических режимов получения диэлектрических плёнок. Проанализированы электрофизические свойства сформированных МДП-структур в зависимости от состава плёнкообразующего раствора.