Определение оптических постоянных одноосных кристаллов с учетом поверхностной изотропной пленки из эллипсометрических измерений

Abstract

Рассматирвается эллипсометрический метод определения комплексных показателей преломления одноосных кристаллов с учетом наличия на поверхности кристалла однородной изотропной пленки. Для слчая прозрачных кристаллов метод позволяет находить показатели преломления для обыкновенного и необыкновенного лучей (𝑛₀ и 𝑛ₑ) с одновременным определением параметров поверхностного слоя (показателя преломления и толщины). При этом поверхностный слой предполагается как однородная изотропная прозрачная пленка. На примере экспериментального определения оптических констант криисталлического кварца и ниобата лития показана эффективность применения предложенного метода. Все полученные результаты относятся к одноосным кристаллам, вырезанным параллельно оптической оси.