| Title: | Компьютерное моделирование процессов лазерного экспонирования фоторезистов |
| Authors: | Купо, А.Н. Побияха, А.С. |
| Keywords: | фоторезист экспонирование моделирование фотохимических реакций |
| Issue Date: | 2015 |
| Citation: | Купо, А.Н. Компьютерное моделирование процессов лазерного экспонирования фоторезистов / А.Н. Купо, А.С. Побияха // Известия Гомельского государственного университета имени Ф. Скорины. Сер.: Естественные науки. - 2015. - № 3(90). - С. 153-156. |
| Abstract: | Представлены результаты численного решения задачи, в которой рассматривалась фотохимическая реакция экспонирования фоторезиста. В качестве объекта исследования рассматривалась прозрачная среда с заданным значением концентрации светочувствительного компонента. Определялось влияние толщины слоя фоторезиста и времени экспозиции на изменение интенсивности лазерного излучения и концентрации светочувствительного компонента. |
| URI: | http://hdl.handle.net/123456789/3182 |
| ISSN: | 1609-9672 |
| Appears in Collections: | Известия ГГУ им. Франциска Скорины. Естественные науки |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| 29 Купо,Побияха (153-156).pdf | 362.58 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.